Search Prior Art

搜先藝

行結構先藝搜以尋早於特造之刊、專利、品、披露。用為評可專（可專乎？）、議效（宜授乎？）、立行自由（既權覆此設乎？）。

用

• 評造為新非顯於申前→用
• 議既專效藉尋審員失之先藝→用
• 支 FTO 析藉尋窄阻專範之先藝→用
• 文錄防披露阻他專念→用
• 應專局疑新或顯之動→用

入

• 必：造述（為何、如何、解何題）
• 必：搜旨（可專、無效、FTO、防）
• 必：關日（專申日，或先藝之造日）
• 可：知關專或刊
• 可：技分碼（IPC、CPC）
• 可：要造或司

行

一：解造為可搜素

裂造為構技特。

1. 讀造述（或專請若搜既專）
2. 抽要素—各獨技特：
   • 含何件？
   • 程循何步？
   • 達何技效？
   • 解何題如何解？
3. 識新合—與知藝之異：
   • 新素加於知素乎？
   • 知素新合乎？
   • 知素施新域乎？
4. 為各素生搜詞：
   • 技詞、同義、縮
   • 寬窄詞（階）
   • 同念之異述
5. 文錄搜圖：素、詞、關

Search Map Example:
+------------------+-----------------------------------+-----------+
| Element          | Search Terms                      | Priority  |
+------------------+-----------------------------------+-----------+
| Attention layer  | attention mechanism, self-        | High      |
|                  | attention, multi-head attention   |           |
| Sparse routing   | mixture of experts, sparse MoE,   | High      |
|                  | top-k routing, expert selection   |           |
| Training method  | knowledge distillation, teacher-  | Medium    |
|                  | student, progressive training     |           |
+------------------+-----------------------------------+-----------+

得：完解附各素搜詞。新合識—此搜必尋（無效）或確無（支新）。

敗：造太抽不可解→求更具述。請不明→重各請素之最寬合理解。

二：搜專文

系搜專庫。

1. 構詢合素詞：
   • 各素先獨搜（寬）
   • 後合素以尋近藝（窄）
   • 用分碼濾按技域
2. 搜諸庫：
   • Google Patents：全文搜善、免、巨集
   • USPTO PatFT/AppFT：US 專與申、官源
   • Espacenet：歐專、佳分搜
   • WIPO Patentscope：PCT 申、全覆
3. 施日濾：
   • 先藝必早於關日（申或先日）
   • 含申前 1 年內之刊（寬期按管異）
4. 各關果錄：
   • 文號、題、申日、刊日
   • 何素披（映搜圖）
   • 披新合否
5. 按關分果：
   • X 引：獨披造（先用）
   • Y 引：披要素、可合他引（顯）
   • A 引：背藝、定一般技態

得：分專引列映造素。X 引（若得）為新之止。Y 引為顯論之磚。

敗：無關專藝→非示造為新—非專文（步三）可含關引。一庫無不謂諸庫無。

三：搜非專文

搜學論、品、開源、他非專披。

1. 學文：
   • Google Scholar、arXiv、IEEE Xplore、ACM Digital Library
   • 用步一同詞
   • 會論與工坊紀常早於專申
2. 品與商披：
   • 品文、用手、行料
   • Internet Archive（Wayback Machine）為日證之網容
   • 業刊與新聞
3. 開源與碼：
   • GitHub、GitLab—搜技特之行
   • README、文、提史為日證
   • 軟釋含本日
4. 標與譜：
   • IEEE、IETF（RFC）、W3C、ISO
   • 標必要專必披；搜標體 IP 庫
5. 防披：
   • IBM Technical Disclosure Bulletin
   • Research Disclosure 刊
   • IP.com Prior Art Database
6. 各果驗刊日早於關日：
   • 網頁：用 Wayback Machine 為日證
   • 軟：用釋日或提時印
   • 論：用刊日非交日

得：非專引補專搜。學論與開源碼常為最強先藝因常較專更顯述技詳。

敗：非專文稀→技或主於企 R&D（專重）。重專文於合導顯論。

四：析映果

評集先藝與造之關。

1. 建請陣映先藝與造素：

Claim Element vs. Prior Art Matrix:
+------------------+--------+--------+--------+--------+
| Element          | Ref #1 | Ref #2 | Ref #3 | Ref #4 |
+------------------+--------+--------+--------+--------+
| Element A        |   X    |   X    |        |   X    |
| Element B        |        |   X    |   X    |        |
| Element C        |   X    |        |   X    |        |
| Novel combo A+B+C|        |        |        |        |
+------------------+--------+--------+--------+--------+

2. 評新：任單引披諸素乎？
   • 是→造為先用（非新）
   • 否→造或新（進顯析）
3. 評顯：少數引（2-3）合可覆諸素乎？
   • 有合動乎？（技人見合由乎？）
   • 引導離合乎？（示不行乎？）
4. 為 FTO 搜：先藝窄阻專請乎？
   • 與阻專請疊之先藝限其行範
5. 文錄析含具引段

得：明請陣示何素覆於何引、含新與顯評。各映引具段或圖。

敗：陣示缺（素於先藝無）→缺示或新處。後搜重特缺。

五：文錄交付

包搜果為宜用。

1. 書 Prior Art Search Report：
   • 搜旨範
   • 搜法（庫、詢、日範）
   • 果簡（引數、分）
   • 上引附詳析（請陣）
   • 評：新、顯、FTO 含
   • 限與後搜建
2. 組引：
   • 按關排（X 先、Y 次、A 末）
   • 各引含全書誌與達鏈
   • 要段標或抽
3. 按搜旨建：
   • 可專：申/否、按缺建請範
   • 無效：最強引合、建法論
   • FTO：險級、設繞機、授考
   • 防：白空所得→宜防披露否

得：完組搜報直支擬決。引可達、析可追。

敗：搜未定（無強 X 或 Y、有關背）→明陳論：「無先用藝；近藝覆素 A、B 而非 C。建申強素 C 之請。」未定為有效有用之果。

驗

• 造解為別可搜素
• 新合顯識
• 專庫搜（≥ 2）
• 非專文搜（學 + 品 + 開源）
• 諸引早於關日（驗）
• 請陣映素於引附段引
• 新與顯評附理
• 果按關分（X、Y、A 引）
• 報含法、限、建
• 搜可重（詢與庫文錄）

忌

• 詞隧：僅精詞失同義與異述。用步一階
• 僅專搜：非專文（論、品、碼）常較專顯。勿略步三
• 日疏：先藝必早於關日。申後一日之佳引無值
• 忽外語藝：大造或先見於中、日、韓、德專文。機譯使可搜
• 確認偏：搜以證新而非搜以尋無效藝。最佳搜最力尋近藝
• 過早止：首數果罕為最佳。按早果迭詞按域語

參

• assess-ip-landscape
• screen-trademark
• file-trademark
• review-research
• security-audit-codebase